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二維材料製備設備係列

雙溫區滑軌式CVD係統(含預熱器) CVD1200C-II-SL 200D50-5Z

文字:[大][中][小] 2017-12-8    瀏覽次數:784    
 

雙溫區滑軌式CVD係統(含預熱器) CVD1200C-II-SL 200D50-5Z

設備描述

CVD1200C-II-SL  200D50-5Z(含預熱器) 雙溫區滑軌式CVD係統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質子流量控製係統、真空係統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動並可實現快速升降溫;PLC控製5路質子流量器,能夠精確控製係統的供氣;真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積係統)常用於表麵材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備

技術參數

雙溫區滑軌爐LFT1200C-II 200D50

爐體結構

該設備采用雙層殼體並帶有風冷係統,使其爐體表麵溫度都小於55

·           爐底安裝一對滑軌,可手動滑動以便滿足特殊工藝的快速升降溫的要求。

爐管尺寸

Φ50/60/80/100×1600mm(可提供特殊定製。)

功率

5kW

輸入電壓

220VAC 單相 50/60Hz

加熱元件

Cr27Al7MO2(摻鉬鐵鉻鋁合金)

最高溫度

最高溫度:1200 

額定溫度:1100

升溫速率

 10/min(推薦)

加熱區長度度

·         兩個加熱區的長度都是200mm

·         分別由獨立的溫控係統控製

恒溫區長

·         100+100mm(±1℃)

·         可獲得較長恒溫區間

控溫精度

·          ±1

快速連接法蘭

·         Φ50快結式不鏽鋼真空法蘭

·         打開法蘭直接卸下卡箍即可,取放樣品方便
另配備有可調節高度的法蘭支架

預熱爐

功率

·         1kw

加熱區

·         100mm

最高溫度

·         1200

工作溫度

·         200-800℃(可根據實際工藝需求調整)

五路質子流量控製係統

MFC-5Z

電壓

220VAC  單相  50/60Hz

針閥材質

316不鏽鋼

量程

50sccm100sccm500sccm500sccm500sccm(可根據工藝要求提供多種量程選擇)

工作溫度

545

外型尺寸

600(L) x 600(W) x 700(H) mm

電壓

AC220V/50Hz單相

功率

23W

真空係統

LVU-10

殼體尺寸

·         600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm

最大承載量

·         1000 Lbs 

抽氣速率

·         10m³/h

·         極限真空度:10-1Pa

·         雙層立式油汙過濾器(PE材質)與真空泵連接

質保期

一年質保期,(相關耗材除外,如爐管,密封圈加熱元件等易耗件)

使用注意事項

·         爐管內氣壓不可高於0.02MPa

·        

·         當爐體溫度高於1000時,爐管內不可處於真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小於200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的衝擊

·         石英管的長時間使用溫度<1100

·         對於樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大於0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

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